无掩模曝光机PCB抄板与样机制作

香港力思集团是专业从事PCB抄板有关的开发和研制机构，提供无论双面、多层板、高频板等抄板设计、BOM表制作、样机制作（含调试）、成品批量加工、技术支持、PCB抄板品质保证,为您节约打样调试及开发费用，同时协助冷偏门元器件的采购，兼容功能器件的替换、设计信号源、测试架抄板等。
产品优点：
·微米和亚微米光刻
·紫外光直写曝光,无需掩模，大幅节约了掩模加工费用
·灵活性高，可直接通过电脑设计光刻图形，并可根据设计要求随意调整。
·可升级开放性系统设计。
·按照客户要求可从低端到高端自由配置
·使用维护简单, 设备耗材价格低。
·应用范围广，目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。
SF-100 XTREME
·汞灯光源,多种波长可选
·最小像素 1um
·1.25 micron with 4X reduction lens
·0.50 micron with 10X reduction lens
·0.25 micron with 20X reduction lens
平台参数
Automated Stage Assembly
·High Precision Linear Drive Stage
·X and Y Movement
·Total travel: 100, 150, or 200 mm
·Accuracy: +/-200 nm per axis
·Repeatability: +/- 50 nm per axis
·Z Movement
·Total travel: 25 mm
·Accuracy: +/- 200 nm
·Repeatability: +/- 75 nm
·Theta Movement
·Total travel: 360 degrees
·Accuracy: +/-5 arc sec
·Repeatability: +/-2 arc sec